薄膜工学第4版

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編：日本学術振興会 R025 先進薄膜界面機能創成委員会

他編著：田畑　仁

他編著：吉田　貞史

出版社：丸善出版

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内容紹介

　薄膜は薄い2次元状の膜の総称であり、薄膜工学は、物理や化学に裏打ちされた薄膜学を工学に応用したものである。薄膜技術は、紀元前のスズめっきに始まる基礎的な技術でありながら、関連する応用分野は広く、とくに今日のナノテクノロジーは微細加工・微細構造作製技術と組み合わせた薄膜技術なしには成り立たない。

　本書は、薄膜の作製・評価・性質を系統的にまとめた入門書であり、これまで学部学生から大学院生、企業の若手技術者のための標準的解説書として広く使用されてきた。今回の第4版では、新たに3つの節「半導体薄膜（ワイドバンドギャップ材料）」「ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜」「2次元材料薄膜（グラフェン、MX2など）」を追加。本分野の技術進展や社会的要請にあわせて、さらに内容を充実させた。

１　薄膜工学の基礎
　１．１　薄膜の歴史
　１．２　薄膜と工学
　１．３　薄膜形成技術
　１．４　薄膜の応用
２　薄膜作製法
　２．１　真空蒸着・ＭＢＥ法
　２．２　スパッタリング
　２．３　化学気相成長
　２．４　印刷法
３　薄膜評価法
　３．１　膜厚・形状評価
　３．２　結晶構造評価
　３．３　組成・状態分析
　３．４　力学的性質の評価
４　薄膜の機能と応用
　４．１　半導体薄膜（シリコン系）
　４．２　半導体薄膜（化合物）
　４．３　半導体薄膜（ワイドバンドギャップ材料）
　４．４　薄膜の光学的性質
　４．５　誘電体薄膜
　４．６　磁性薄膜
　４．７　有機薄膜
　４．８　ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜
　４．９　２次元材料薄膜（グラフェン，MX2など）
　４．１０　薄膜の化学的性質

ISBN：9784621309780
出版社：丸善出版
判型：A5
ページ数：322ページ
定価：4200円（本体）
発行年月日：2024年07月
発売日：2024年07月29日
国際分類コード【Thema（シーマ）】１：TJF。

※同一作品の他版、アクセシブルブックにはAIにより推定されたものが含まれる場合があります。

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