エピタキシャル成長のメカニズム

シリーズ　結晶成長のダイナミクス 3

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編：中嶋　一雄

出版社：共立出版

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内容紹介

本書ではエピタキシャル成長の熱力学、結晶成長のカイネティクス、基板の表面状態とエピタキシャル成長、ヘテロエピタキシャル成長といった、最も基本となる重要なテーマを取り上げて解説する。本文中に出てくる式に対しても、その導出を行いその意味するところを理解できるように述べた。また、専門用語に対してもできるだけ説明を加え、本書のみで読者が理解し、独力で読み進めることが出来るように工夫している。

1．基本概念
1.1　はじめに
1.2　エピタキシャル成長の基礎
1.3　結晶成長に影響を与える因子
1.4　成長モード

2．エピタキシャル成長の熱力学
2.1　固液平衡からの成長（LPE ）
2.2　固気平衡からの成長

3．結晶成長のカイネティクス
3.1　成長表面のカイネティクス
3.2　溶液成長における溶質元素の拡散
3.3　気相成長の物質輸送効果

4．基板の表面状態とエピタキシャル成長
4.1　面方位とエピタキシャル成長
4.2　微傾斜面とエピタキシー
4.3　サーファクタントを利用した成長

5．ヘテロエピタキシャル成長
5.1　ヘテロエピタキシャル成長と格子整合
5.2　ヘテロ構造の応力・歪み

ISBN：9784320034129
出版社：共立出版
判型：A5
ページ数：200ページ
定価：4000円（本体）
発行年月日：2002年05月
発売日：2002年05月23日
国際分類コード【Thema（シーマ）】１：TJF。

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