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シリーズ 結晶成長のダイナミクス 3

エピタキシャル成長のメカニズム

編:中嶋 一雄

紙版

内容紹介

本書ではエピタキシャル成長の熱力学、結晶成長のカイネティクス、基板の表面状態とエピタキシャル成長、ヘテロエピタキシャル成長といった、最も基本となる重要なテーマを取り上げて解説する。本文中に出てくる式に対しても、その導出を行いその意味するところを理解できるように述べた。また、専門用語に対してもできるだけ説明を加え、本書のみで読者が理解し、独力で読み進めることが出来るように工夫している。

目次

1.基本概念
1.1 はじめに
1.2 エピタキシャル成長の基礎
1.3 結晶成長に影響を与える因子
1.4 成長モード

2.エピタキシャル成長の熱力学
2.1 固液平衡からの成長 (LPE )
2.2 固気平衡からの成長

3.結晶成長のカイネティクス
3.1 成長表面のカイネティクス
3.2 溶液成長における溶質元素の拡散
3.3 気相成長の物質輸送効果

4.基板の表面状態とエピタキシャル成長
4.1 面方位とエピタキシャル成長
4.2 微傾斜面とエピタキシー
4.3 サーファクタントを利用した成長

5.ヘテロエピタキシャル成長
5.1 ヘテロエピタキシャル成長と格子整合
5.2 ヘテロ構造の応力・歪み

ISBN:9784320034129
出版社:共立出版
判型:A5
ページ数:200ページ
定価:4000円(本体)
発行年月日:2002年05月
発売日:2002年05月23日
国際分類コード【Thema(シーマ)】 1:TJF