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シリサイド系半導体の科学と技術

資源・環境時代の新しい半導体と関連物質

編著:前田 佳均

紙版

内容紹介

 公益社団法人 応用物理学会の「シリサイド系半導体と関連物質研究会」によって企画された待望の書。
 環境負荷が少なく、かつ持続可能なグリーンテクノロジーである“シリサイド系半導体”の研究・開発において、世界をリードする著者たちが、その基礎物性と応用技術の現状を余すところなく解説した。
 読者の方々が、(シリコン)光エレクトロニクス、スピントロニクス、グリーンテクノロジー、フォトニクス分野のさらなる進展へのブレークスルーに活用されんことを期待する。

目次

1.シリサイド系半導体の基礎
2.結晶成長技術
3.薄膜形成技術
4.構造解析
5.鉄シリサイドの物性
6.新しいシリサイドの合成と物性
7.シリサイド系半導体の応用

著者略歴

編著:前田 佳均
九州工業大学教授、博士(工学)。1959年生まれ。京都大学工学部卒業、京都大学大学院工学研究科修了。(株)日立製作所、大阪府立大学講師・助教授、英国サリー大学客員研究員、京都大学助教授・准教授などを経て現職。専門は半導体物性工学、ナノ構造光物性。

ISBN:9784785329204
出版社:裳華房
判型:A5
ページ数:342ページ
定価:5000円(本体)
発行年月日:2014年09月
発売日:2014年10月01日
国際分類コード【Thema(シーマ)】 1:PHM