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ナノインプリント技術の集大成！
1995年のチュー（Chou）教授によるナノインプリント技術の提案から24年が過ぎ、装置開発および関連部材である材料開発、モールド開発などのインフラがかなり整備されてきました。ナノインプリント技術は、これまでの半導体に代表される光ステッパや電子ビーム描画による微細加工装置に比べて、装置構造が簡単でかつ装置価格が格段に安価であることが特徴です。安価な装置、プロセスが簡便かつ10ナノメートルレベルの高解像度、および高スループットである特徴がナノインプリントのさまざまなデバイスへの量産化適用への魅力となっています。
　これまでに、微細マイクロレンズ、高効率フォトダイオードを達成するためのフォトニクス結晶構造形成、液晶ディスプレイなどに用いる高性能反射防止膜などが、すでに実応用されており、さらにさまざまな分野への応用研究が開始されています。たとえばエネルギー分野では、燃料電池の反応場の隔壁や太陽電池の表面にナノインプリントにより凹凸を持たせ、効率を上げることが行われています。さらに、半導体集積回路チップの量産適用研究も開始されると期待されています。このように、ナノインプリント技術を適用した市場は急速に成長しており、その個々の製品市場規模はきわめて大きいものとなっています。ナノインプリント技術を有し、製品展開することにより、企業の技術差別化、優位性を図ることができると確信しています。
　本書は、ナノインプリントの基礎とともに、現状で最新のナノインプリント装置と関連部材、多様なデバイス応用についてわかりやすく執筆しました。初心者から第一線の技術者、研究者の方々が、実際にナノインプリント技術に取り組む際に、必ずや参考になる最新の研究成果を網羅した座右の書です。