目次

Ⅰ　基礎編
　第1章　半導体製造装置と真空
　　1　装置システム構成
　　2　なぜ真空が使われるのか
　　3　半導体での真空応用例
　第2章　真空の理論と計算
　　1　まずはトリチェリの実験から
　　2　単位の話—PaとTorr，mbar
　　3　真空理論の初歩
　　4　真空の計算—P，S，Q
　第3章　真空ポンプとその使い方
　　1　真空ポンプとは
　　2　各種ポンプの原理と構造
　第4章　真空ゲージとその使い方
　　1　真空ゲージとは
　　2　各種真空ゲージの原理と構造
　　3　使用上の注意
　第5章　ガスシステム・真空部品とその使い方
　　1　真空シール，ガスケット，O-Ring
　　2　フランジ・配管
　　3　運動伝達部品
　　4　バルブ・圧力調整機
　　5　マスフローコントローラ
　　6　配管継手類
　　7　フィルタ
　　8　フィードスルー
　第6章　リーク探し
　　1　リークの検出
　　2　ヘリウムリークディテクタの原理と使用法
　　3　その他のリークチェック法
　第7章　真空装置の取り扱い
Ⅱ　応用編
　第8章　サーマル装置とプロセス
　　1　熱酸化膜成長
　　2　アニールと不純物活性化
　　3　低温化の問題
　第9章　プラズマ装置とプロセス
　　1　プラズマ放電
　　2　プラズマ応用装置のカップリングによる分類
　　3　ECR
　　4　シース
　第10章　PVD装置とプロセス
　　1　PVD装置の働き
　　2　クラスタツール
　　3　PVDプロセス
　　4　PVD薄膜構造
　　5　薄膜の評価
　第11章　CVD装置とプロセス
　　1　CVDとは
　　2　プラズマCVD
　　3　薄膜の評価
　　4　HDP CVD
　第12章　エッチング装置とプロセス
　　1　エッチング装置の働き
　　2　エッチングガス
　　3　エッチング作用の種類
　　4　形状制御
　　5　問題点
　第13章　インプランテーション装置とプロセス
　　1　インプランテーション装置の働き
　　2　イオンの選択
　　3　イオンの打ち込み
　　4　熱工程
　　5　インプランテーション装置の種類
　　6　問題点
　第14章　プロセス管理・検査測定装置
　　1　パーティクルインサイチューモニタ
　　2　RGA
参考文献
索引